Park Systems NX10 원자현미경 AFM
High-performance small sample AFM with True Non-contact™ mode, orthogonal scan, fast Z servo, multi-mode.
고성능 소형 시료 원자현미경, True Non-contact™ 모드, 직교 스캔 시스템.
Description
Park NX10 is an Atomic Force Microscope (AFM) designed for small sample research, delivering outstanding accuracy, reliability, and ease of use. As the first small sample-dedicated AFM developed by Park Systems, it has earned recognition from academic and industrial laboratories worldwide through its precise and repeatable nanoscale measurement technology. At the core of the NX10 are Park’s proprietary orthogonal scan system and True Non-contact™ mode. These innovations virtually eliminate image distortion caused by probe wobbling or slipping during scanning, while simultaneously protecting both the probe and sample. Used together, they guarantee high-resolution, distortion-free imaging even of the most delicate or challenging samples. From materials science to polymer and bioengineering research, the NX10 provides stable performance and reliable results, establishing itself as a trusted platform for cutting-edge nanoscale metrology.
Park NX10은 소형 샘플 연구를 위해 설계된 원자력 현미경(AFM)으로, 탁월한 정확성, 신뢰성, 사용 편의성을 제공합니다. Park Systems가 최초로 개발한 소형 샘플 전용 AFM이며, 정확하고 반복 가능한 나노스케일 측정 기술을 바탕으로 전 세계의 학계와 산업계 연구실에서 인정을 받았습니다. NX10의 핵심은 Park의 독자적인 직교 스캔 시스템과 True Non-contact™ 모드입니다. 이러한 혁신은 스캔 과정에서 프로브가 좌우로 흔들리거나 미끄러지면서 실제와 다르게 나타나는 이미지 왜곡을 사실상 제거하는 동시에 프로브와 샘플을 모두 보호합니다. 이러한 기술을 함께 사용하면 가장 섬세하거나 어려운 샘플에 대해서도 왜곡 없는 고해상도 이미징이 보장됩니다. 재료 과학에서 고분자 및 생명 공학에 이르기까지 NX10은 안정적인 성능과 신뢰할 수 있는 결과를 제공하여 최첨단 나노스케일 계측을 위한 신뢰받는 플랫폼으로 자리매김하고 있습니다.
- True Non-contact™ mode — prevents probe wear and sample damage for distortion-free high-resolution imaging
- Orthogonal scan system with flexure-based structure for minimized inter-axis crosstalk
- Fast Z servo with high image resolution — stacked piezo actuator and strain gauge sensor Z scanner
- Enhanced Z scan linearity — below 0.1% over full range, with out-of-axis motion below 5 nm at full 15 μm extension
- Low Z-axis detector noise below 0.02 nm (rms), enabling sub-nanometer height measurement
- Pre-aligned probe mounting system with precision kinematic mount for reliable, consistent probe positioning
- Intuitive laser beam alignment via direct X/Y adjustment knobs
- On-axis optical microscope with software-controlled LED illumination
- Recipe-based sequential measurement via StepScan™
- Plug-in expansion slot for modular advanced AFM mode upgrades
- Broad range of AFM measurement modes including electrical, mechanical, magnetic, thermal, and electrochemical
- Multiple sample chuck and holder options
- Pipette-based applications including SICM, SICM-SECM, and SECCM
- Park SmartScan™ with automated scan parameter optimization
- Park SmartAnalysis™ for comprehensive AFM data analysis and workflow optimization
- True Non-contact™ 모드 — 프로브 마모 및 샘플 손상 방지로 왜곡 없는 고해상도 이미징 구현
- 축간 간섭을 최소화하는 플렉셔 기반 직교 스캔 시스템
- 적층형 피에조 액추에이터 및 스트레인 게이지 센서 Z 스캐너를 통한 빠른 Z 서보 및 고해상도 이미징
- 전체 범위에서 0.1% 이내의 우수한 Z 스캔 직선도, 15 μm 완전 확장 시에도 축 이탈 움직임 5 nm 이하
- 0.02 nm (rms) 미만의 극저 Z축 감지기 잡음으로 서브나노미터 높이 측정 가능
- 신뢰성 있고 일관된 프로브 위치 조정을 보장하는 정밀 키네마틱 마운트 기반 사전 정렬 프로브 장착 시스템
- X/Y 직접 조정 노브를 통한 직관적인 레이저 빔 정렬
- 소프트웨어 제어 LED 조명이 탑재된 동축 광학 현미경
- StepScan™을 통한 레시피 기반 순차 측정
- 고급 AFM 모드 업그레이드를 위한 플러그인 방식 확장 슬롯
- 전기적, 나노역학적, 자기적, 열적, 전기화학적 특성을 포함한 광범위한 AFM 측정 모드
- 다양한 샘플 척 및 홀더 옵션
- SICM, SICM-SECM, SECCM을 포함한 피펫 기반 응용 분야 지원
- 자동 스캔 파라미터 최적화 기능이 탑재된 Park SmartScan™
- 포괄적인 AFM 데이터 분석 및 워크플로 최적화를 위한 Park SmartAnalysis™
Applications
- Nanoscale surface topography of 2D materials — MoS₂ thin film step structure characterization
- Materials science — aluminum alloy surface potential mapping via Sideband KPFM
- Biological and organic materials — nano gold on epithelial cells, rat trachea cell imaging via SICM in liquid
- DNA nanostructure imaging — origami DNA surface topography in liquid environment via Tapping mode
- Blood cell surface topography measurement
- Polymer characterization — styrenic block copolymer mechanical properties and topography via PinPoint nanomechanical mode
- Nanoimprint mold and high-aspect-ratio structure measurement
- Photoresist surface topography measurement before exposure
- Electrochemical surface analysis via EC-AFM, SICM-SECM, and SECCM
- Sequential multi-position automated measurement using StepScan™
- 2차원(2D) 소재 나노스케일 표면 형상 — MoS₂ 박막 계단형 구조 특성 분석
- 재료 과학 — 사이드밴드 KPFM을 통한 알루미늄 합금 표면 전위 매핑
- 생물학적 및 유기 소재 — 상피 세포 위 나노 금 형상 분석, 액체 환경에서 SICM을 통한 쥐 기관지 세포 이미징
- DNA 나노구조 이미징 — 액체 환경에서 탭핑 모드로 오리가미 DNA 표면 형상 측정
- 혈구 표면 형상 측정
- 고분자 특성 분석 — PinPoint 나노기계 모드를 통한 스티렌계 블록 공중합체 기계적 특성 및 형상 동시 측정
- 나노임프린트 몰드 및 고종횡비 구조물 측정
- 노광 전 포토레지스트 표면 형상 측정
- EC-AFM, SICM-SECM, SECCM을 통한 전기화학적 표면 분석
- StepScan™을 활용한 다중 위치 순차 자동 측정
Specifications
| AFM Modes |
|---|
| Standard |
| True Non-Contact™ |
| Contact AFM |
| Lateral Force Microscopy (LFM) |
| Phase Imaging |
| Tapping Mode |
| Force Distance (F/d) Spectroscopy |
| PinPoint™ AFM |
| Electrical |
| Conductive AFM (C-AFM) |
| IV Spectroscopy |
| Kelvin Probe Force Microscopy (KPFM) |
| Scanning Capacitance Microscopy (SCM) |
| Scanning Spreading-Resistance Microscopy (SSRM) |
| Scanning Tunneling Microscopy (STM) |
| Photo Current Mapping (PCM) |
| Electrochemical AFM (EC-AFM) |
| Thermal Stages (Optional) |
| Stage 1: -25°C to +170°C |
| Stage 2: Ambient to +250°C |
| Stage 3: Ambient to +600°C |







